Dr.Althea 345 Relief Cream Mask

Intensive Pflege für eine makellose Hautbarriere!

Die Dr.Althea 345 Relief Cream Mask ist die perfekte Ergänzung für Ihre Pflegeroutine, wenn Ihre Haut nach schneller Regeneration verlangt. Die sanfte Tuchmaske ist reichhaltig getränkt und schmiegt sich perfekt an, um die Wirkstoffe tiefenwirksam abzugeben.

- Schnelle Hilfe bei Rötungen: Beruhigt gereizte Hautpartien und lindert Spannungsgefühle nach nur einer Anwendung.

- Nachhaltige Hydratation: Füllt die Feuchtigkeitsdepots auf und hinterlässt ein geschmeidiges Hautgefühl ohne zu fetten.

- Glatte Hautstruktur: Verfeinert das Hautbild und hilft dabei, Unregelmäßigkeiten und kleine Makel zu minimieren.

- Hypoallergen & Sanft: Ideal für empfindliche und zu Akne neigende Haut geeignet – ohne irritierende Duftstoffe.

1. Nach der Reinigung das Gesicht tonisieren.
2. Die Maske passgenau auflegen.
3. Nach 15-20 Minuten abnehmen und die restliche Essenz sanft einklopfen, bis sie vollständig eingezogen ist.

Water,Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Water,Methylpropanediol,1,2-Hexanediol,Butylene Glycol,Glycerin,Niacinamide,Octyldodeceth-16,Triethylhexanoin,Caprylic/Capric Triglyceride,Pentylene Glycol,Carbomer,Hydroxyethylcellulose,Tromethamine,Allantoin,Trehalose,Caprylyl Glycol,Ethylhexylglycerin,Dipotassium Glycyrrhizate,Disodium EDTA,Panthenol,Glycine Soja (Soybean) Seed Extract,Sodium Hyaluronate,Hydrolyzed Hyaluronic Acid,Pantothenic Acid,Centella Asiatica Leaf Water,Cyclodextrin,Centella Asiatica Extract,Hydrogenated Lecithin,Madecassoside,Ceramide NP,Cholesterol,Camellia Sinensis Leaf Water,Resveratrol,Beta-Glucan,Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract